臺式勻膠機主要由樣品臺、滴膠裝置和空心電動機組成，其工作原理是，通過在樣品臺上產(chǎn)生負(fù)壓將需要旋涂的基底材料吸附在樣品臺上，光刻膠液滴注在基底材料的表面，通過準(zhǔn)確控制電動機的旋轉(zhuǎn)速度，以此來改變離心力的大小，同時通過控制膠液的流量來達到制備薄膜所需的厚度。
 

　　臺式勻膠機常用的滴膠方式分為兩種，即靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。靜態(tài)滴膠是在基片靜止時將光刻膠滴注到基片的中心位置，滴膠量還應(yīng)根據(jù)光刻膠的黏度和基片的大小來確定。當(dāng)光刻膠黏度較高或基片尺寸較大時，需要更多的光刻膠才能保證在高速旋轉(zhuǎn)過程中整個基片上都能夠徐到膠并保證其均勻性。
 

　　動態(tài)滴膠是指基片在旋轉(zhuǎn)的過程中將光刻膠滴注到基片的中心位置，通常旋轉(zhuǎn)速度不宜過快，動態(tài)滴膠可以在保證快速地在基片表面將光刻膠鋪開的前提下，減少針孔的產(chǎn)生，也可減少光刻膠的使用量。當(dāng)一些特定材料與光刻膠之間的濕潤性不好時，動態(tài)滴膠可以體現(xiàn)出靜態(tài)滴膠所不具備的旋涂優(yōu)勢。
 

　　臺式勻膠機在旋涂過程中會出現(xiàn)邊緣效應(yīng)，這是由于在旋涂的過程中溶劑的揮發(fā)導(dǎo)致表面和邊界處光刻膠的濃度和黏度都增大，從而引起邊緣位置較中心位置要厚一些，因此基片邊緣需要經(jīng)過去邊處理。去邊處理包括基片正面和背面的化學(xué)去邊處理，以及基片正面的光學(xué)去邊處理。